电科技7月17日消息，英特尔已率先将High-NA EUV技术应用于量产（18A Panther Lake），而三星虽然已安装2台High-NA EUV设备，却迟迟没有跟进量产。
High-NA EUV是新一代光刻机能更精确聚焦光线，一次画出更细密电路，每台成本超过5000亿韩元（约22.85亿元人民币）。
三星去年已在华城园区安装首台设备，今年上半年又增设一台，总投资超1万亿韩元（约45.7亿元人民币），但这些设备至今闲置，商业化部署仍处于暂停状态。
业内人士认为，三星这么做更多是出于财务考量而非技术瓶颈，三星晶圆代工业务自2022年以来持续亏损，部分市场观察人士预计最快今年第四季度实现盈利。
此时将High-NA EUV投入量产意味着固定运营成本大幅增加，三星不愿在即将扭亏为盈的节点上承担更多资本支出。
三星2纳米工艺良率已提升至55%左右，接近稳定量产所需的60%水平，技术上并非不能用新设备。
半导体设备行业人士表示，三星目前的良率已经可以部署新设备，但在获得更多大型客户订单、确保盈利能力更稳固之前，仍将维持保守的资本支出策略。
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