规模暴涨8倍!英特尔超大尺寸封装技术实现重要突破 电科技7月30日消息,据媒体报道,英特尔在超大尺寸封装技术上取得重要突破,目前已能够制造出尺寸超过光刻掩模版12倍的超大型芯片。 这一进展由英特尔位于美国新墨西哥州里奥兰乔的工厂推动,其先进封装能力正不断刷新“光罩极限”——当前封装尺寸已达… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论
规模暴涨8倍!英特尔超大尺寸封装技术实现重要突破 电科技7月30日消息,据媒体报道,英特尔在超大尺寸封装技术上取得重要突破,目前已能够制造出尺寸超过光刻掩模版12倍的超大型芯片。 这一进展由英特尔位于美国新墨西哥州里奥兰乔的工厂推动,其先进封装能力正不断刷新“光罩极限”——当前封装尺寸已达… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论
作者: 规模暴涨8倍!英特尔超大尺寸封装技术实现重要突破 电科技7月30日消息,据媒体报道,英特尔在超大尺寸封装技术上取得重要突破,目前已能够制造出尺寸超过光刻掩模版12倍的超大型芯片。 这一进展由英特尔位于美国新墨西哥州里奥兰乔的工厂推动,其先进封装能力正不断刷新“光罩极限”——当前封装尺寸已达… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论
规模暴涨8倍!英特尔超大尺寸封装技术实现重要突破 电科技7月30日消息,据媒体报道,英特尔在超大尺寸封装技术上取得重要突破,目前已能够制造出尺寸超过光刻掩模版12倍的超大型芯片。 这一进展由英特尔位于美国新墨西哥州里奥兰乔的工厂推动,其先进封装能力正不断刷新“光罩极限”——当前封装尺寸已达… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论