英特尔公布关键进展:高数值孔径EUV晶圆处理量突破百万片 电科技9月9日消息,英特尔在先进芯片制造领域再获关键突破,其晶圆代工部门宣布,采用高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术处理的晶圆累计量已突破100万片大关。 这一数字涵盖了设备认证、测试研发及部分产品层的量产环节,标志着该项下… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论
英特尔公布关键进展:高数值孔径EUV晶圆处理量突破百万片 电科技9月9日消息,英特尔在先进芯片制造领域再获关键突破,其晶圆代工部门宣布,采用高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术处理的晶圆累计量已突破100万片大关。 这一数字涵盖了设备认证、测试研发及部分产品层的量产环节,标志着该项下… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论
作者: 英特尔公布关键进展:高数值孔径EUV晶圆处理量突破百万片 电科技9月9日消息,英特尔在先进芯片制造领域再获关键突破,其晶圆代工部门宣布,采用高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术处理的晶圆累计量已突破100万片大关。 这一数字涵盖了设备认证、测试研发及部分产品层的量产环节,标志着该项下… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论
英特尔公布关键进展:高数值孔径EUV晶圆处理量突破百万片 电科技9月9日消息,英特尔在先进芯片制造领域再获关键突破,其晶圆代工部门宣布,采用高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术处理的晶圆累计量已突破100万片大关。 这一数字涵盖了设备认证、测试研发及部分产品层的量产环节,标志着该项下… 赞 参与讨论{{item.data.meta.comment}}条讨论